Yarı iletken cihaz imalatı

Yarı iletken
cihaz
imalatı
MOSFET ölçeği
(işlem düğümleri)
  • 010 µm – 1971
  • 006 µm – 1974
  • 003 µm – 1977
  •  1.5 µm – 1981
  • 001 µm – 1984
  • 800 nm – 1987
  • 600 nm – 1990
  • 350 nm – 1993
  • 250 nm – 1996
  • 180 nm – 1999
  • 130 nm – 2001
  • 090 nm – 2003
  • 065 nm – 2005
  • 045 nm – 2007
  • 032 nm – 2009
  • 022 nm – 2012
  • 014 nm – 2014
  • 010 nm – 2016
  • 007 nm – 2018
  • 005 nm – 2020
  • 003 nm – 2022
Future
  • 002 nm ~ 2024
  • g
  • t
  • d

Yarı iletken cihaz imalatı, yarı iletken cihazları, tipik olarak günlük elektrikli ve elektronik cihazlarda bulunan entegre devre (IC) yongalarında kullanılan metal oksit yarı iletken (MOS) cihazları üretmek için kullanılan süreçtir. Saf yarı iletken malzemeden yapılmış bir wafer üzerinde elektronik devrelerin kademeli olarak oluşturulduğu fotolitografik ve kimyasal işlem aşamalarının (yüzey pasivasyonu, termal oksidasyon, düzlemsel difüzyon ve bağlantı izolasyonu gibi) çok aşamalı bir dizisidir. Silisyum hemen hemen her zaman kullanılır, ancak özel uygulamalar için çeşitli bileşik yarı iletkenler kullanılır.

Yıllara göre yarı iletken ölçekleri

  • 050 µm – 1960 yılları
  • 020 µm – 1960 yılları
  • 016 µm – 1960 yılları
  • 010 µm – 1971 yılı
  • 08 µm – 1972 yılı
  • 07 µm – 1973 yılı
  • 006 µm – 1974 yılı
  • 05 µm – 1975 yılı
  • 03.5 µm – 1976 yılı
  • 003  µm – 1977 yılı
  • 02.5 µm – 1979 yılı
  • 02 µm – 1980 yılı
  •  1.5 µm – 1981 yılı
  • 01.3 µm – 1982 yılı
  • 01.2 µm – 1983 yılı
  • 001 µm – 1984 yılı
  • 800 nm – 1987 yılı
  • 750 nm – 1988 yılı
  • 700 nm – 1989 yılı
  • 650 nm – 1990 yılı
  • 600 nm – 1990 yılı
  • 500 nm – 1992 yılı
  • 350 nm – 1993 yılı
  • 280 nm – 1994 yılı
  • 250 nm – 1996 yılı
  • 240 nm – 1997 yılı
  • 220 nm – 1998 yılı
  • 180 nm – 1999 yılı
  • 150 nm – 2000 yılı
  • 130 nm – 2001 yılı
  • 090 nm – 2003 yılı
  • 080 nm – 2004 yılı
  • 065 nm – 2005 yılı
  • 055 nm – 2006 yılı
  • 045 nm – 2007 yılı
  • 040 nm – 2008 yılı
  • 032 nm – 2009 yılı
  • 028 nm – 2010 yılı
  • 022 nm – 2012 yılı
  • 020 nm – 2013 yılı
  • 016 nm – 2014 yılı
  • 014 nm – 2014 yılı
  • 010 nm – 2016 yılı
  • 007 nm – 2018 yılı
  • 005 nm – 2020 yılı
  • 003 nm – 2022 yılı
  • 002 nm ~ 2024 yılı (planlanıyor)
  • 001 nm ~ 2026 yılı (planlanıyor)

Ayrıca bakınız

Konuyla ilgili yayınlar

  • Kaeslin, Hubert (2008), Digital Integrated Circuit Design, from VLSI Architectures to CMOS Fabrication, Cambridge University Press , section 14.2.
  • Wiki related to Chip Technology 26 Ekim 2020 tarihinde Wayback Machine sitesinde arşivlendi.

Dış bağlantılar

  • Silicon Wafers for Semiconductor Device Fabrication 9 Ekim 2020 tarihinde Wayback Machine sitesinde arşivlendi.
  • Semiconductor glossary 1 Şubat 2006 tarihinde Wayback Machine sitesinde arşivlendi.
  • Wafer heating
  • Designing a Heated Chuck for Semiconductor Processing Equipment 10 Ağustos 2020 tarihinde Wayback Machine sitesinde arşivlendi.
Taslak simgesiElektronik ile ilgili bu madde taslak seviyesindedir. Madde içeriğini genişleterek Vikipedi'ye katkı sağlayabilirsiniz.